多目的真空蒸着装置 - HEXシステム

英国Korvus Technology社製HEXシステムは、既存の装置にはないカスタマイズ性や汎用性を備えた真空蒸着装置です。

六角柱の形状をしたフレームの各面にパネルをボルトどめすることで真空チャンバーを構成します。各パネルは簡単に交換できるので、ユーザー自身でポートの配置や数の変更、真空装置の構成変更や機能拡張を行うことが可能です。

成膜ソースを交換することで、スパッタリング装置、抵抗加熱蒸着装置、電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）、有機物蒸着装置と汎用的に利用可能です。また複数の成膜ソースを組み合わせることで、シンプルなコーティングから複雑な多層膜まで幅広い研究に対応します。

HEXはチャンバーレッグを含めても60cm角におさまる非常にコンパクトな真空装置です。卓上蒸着装置と同程度のサイズですが、研究テーマの変更に合わせて、多目的に使用可能です。

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展示機のご案内

展示用のHEXシステムおよびスパッタソースがございます。実機を持参してご紹介させていただくことが可能です。お気軽にお申し付けください。

特徴

多目的に使用可能な真空蒸着装置
Oリングシール採用による高真空システム
スパッタリング、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機物蒸着に対応
卓上真空装置としても使用可能なコンパクト設計
モジュール方式より自由自在にシステム構成変更
類まれな拡張性およびメンテナンス性
シンプルなコーティングから複雑な多層膜まで対応
低コストでグローブボックスと統合可能（リチウム蒸着に最適）

	HEX	HEX-L
最大サンプルサイズ（直径）	4インチ	6インチ
標準ターボ分子ポンプ	80L/sec	300L/sec
ベース圧力	5 x 10^-4Pa	9 x 10^-5Pa
サイドパネル数	6	6
最大成膜ソース数	3台	6台

モジュール設計

HEXシステムのコアは六角柱の形状をしたアルミニウム製フレームです。フレーム上面にはサンプルステージが、下面には真空ポンプが取り付けられます（逆も可）。そして、側面には6枚のパネルが取り付けられます。側面パネルはOリングシールになっており、4本のボルトだけでフレームに固定されているので、短時間で簡単に交換することができます。

側面パネルにはチャンバーウォール（ブランクパネル）、ビューポートパネル、インスツルメントパネル、ガス導入パネルやQCM（膜厚計）パネルなど複数の種類が用意されています。側面パネルを交換することで、必要に応じてポートの数や位置を自由自在に変更することができます。

サンプルステージや成膜ソースの固定には蝶ナットが採用されています。さらに、冷却水配管やガス配管の接続にはクイックコネクターが採用されています。これにより、工具を使用せずに短い作業時間でメンテナンスを行うことができます。

HEXシリーズは、世界中の大学や研究所で、新しい材料の研究、スパッタ堆積、コンタクトメタライゼーション、電極のコーティング、リフトオフ、EMサンプル準備および教育といった用途で使用されています。また、HEXのモジュール性はリチウムイオン電池の研究と言った、ブローブボックスと組み合わせた成膜に理想的です。