多目的真空蒸着装置 - HEXシステム
HEXシステムは、非常にコンパクトで汎用性の高い真空蒸着装置です。拡張性に優れており、研究アプリケーションに最適です。はじめに必要最小限のシステム構成で導入し、必要に応じてアップグレードすることができます。HEXシステムはモジュール方式が採用されていることから、アップグレード時のダウンタイムやコストを大幅に削減します。
HEXシステムの基本モデルには、排気速度80L/sのターボ分子ポンプが付属し、ベース真空度は最高でおよそ8×10-5Paです。また、最大で直径100mm(4インチ)のサンプルに対応します。このシステムには、複数の小さなサンプルを同時に固定できるマルチサンプルホルダーも付属します。
HEXシステムには、最高で4×10-5Paのベース真空度を実現する300L/sのターボ分子ポンプなど、多彩なアップグレードオプションが用意されています。また、HEX-Lチャンバーを選択することで、最大直径150mm(6インチ)のサンプルに対応します。
研究開発を念頭に置いた設計
HEXシステムは研究開発に最適な真空成膜装置です。モジュール構造が採用されていることから、すべてのコンポーネントに簡単にアクセスすることが可能です。
HEXシステムは、次のような薄膜堆積プロセスに対応します。
- 表面分析のための試料作製
- 電子ビーム蒸着
- パルスレーザー蒸着
- 有機物理蒸着
また、HEXシステムは、次のようなアプリケーションに適しています。
- 金属およびフォトレジストのリフトオフプロセス
- 電気接点
- EM試料作製
- 新しいコーティング材料の研究開発
- マグネトロン スパッタリング成膜の最適化
- リチウムイオン電池などの不活性雰囲気アプリケーション(グローブボックス対応)
- 光学コーティング
- 教育
追加機能が必要になった場合、HEXシステムには機能を拡張する多くのアップグレードオプションが用意されています。
モジュール設計
HEXシステムのコアは六角柱の形状をしたアルミニウム製フレームです。フレーム上面にはサンプルステージが、下面には真空ポンプが取り付けられます。そして、側面には6枚のパネルが取り付けられます。側面パネルはOリングシールになっており、4本のボルトだけでフレームに固定されているので、短時間で簡単に交換することができます。
側面パネルにはブランクパネル(チャンバーウォール)、ビューポートパネル、インスツルメントパネル、ガス導入パネルや膜厚測定用QCMパネルなど複数の種類が用意されています。側面パネルを交換することで、必要に応じてポートの数や位置を自由自在に変更することができます。
サンプルステージや成膜ソースの固定には蝶ナットが採用されています。また、冷却水配管やガス配管の接続にはクイックコネクターが採用されています。これにより、工具を使用せずに短い作業時間でメンテナンスを行うことができます。
HEX | HEX-L | |
---|---|---|
最大サンプルサイズ(直径) | 4インチ | 6インチ |
標準ターボ分子ポンプ | 80L/sec | 300L/sec |
ベース圧力 | 5 x 10-4Pa | 9 x 10-5Pa |
サイドパネル数 | 6 | 6 |
最大成膜ソース数 | 3台 | 6台 |
コンポーネント
スパッタソース
直径2インチ、厚さ1~6mmのターゲットに対応したスパッタソース。DCスパッタおよびRFスパッタに対応。スパッタリング装置として使用することが可能です。
詳細情報
電子ビーム蒸着源
サブモノレイヤーレベルの高精度制御が可能な電子ビーム蒸着源。材料はロッドまたはルツボを用いて蒸着します。標準でフラックス速度のリアルタイム測定および制御が可能。電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)として使用することが可能です。
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抵抗加熱蒸着源
各種ボートを取り付け可能な抵抗加熱蒸着源。金属および有機材料、ポリマーの蒸着が可能。抵抗加熱蒸着装置として使用することが可能です。
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有機蒸着源
有機材料を高精度で蒸着することが可能。最高加熱温度は600度。200~300度の低温領域でも優れた温度制御性。有機物蒸着装置として使用することが可能です。
詳細情報
サンプルステージ
標準の固定タイプの他に、回転、加熱、水冷、DCバイアスなどの機能を追加したサンプルステージも選択可能。
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システムアクセサリー
HEXシステムは高度にモジュール化された真空蒸着装置で、成膜ソース以外にも膜厚計(QCM)などの様々なアクセサリーを追加することが可能。
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